光刻机 (Mask Aligner)

一台用于光刻精细电路的机器,能一次处理4个配方。

截至6.13.07-exp-build1版本,能且只能光刻蚀刻铂电路(蚀刻铂电路的激光刻蚀机配方已被删去)。

效率:50%


底层是3×3不锈钢壁板。

第二层是3×3中空光刻单元包围着1×1不锈钢壁板。

第三层是3×3不锈钢壁板。

主方块位于侧面底层中心,正面朝外。

能量输入:512LU/t(256 to 8192)

顶层接受物品和流体输入,底层接受物品和流体输出。

能量只能从光刻单元出输入。

在15.08版本中gt6u已有光刻胶,并且可以制作,但是无任何用途,可以考虑使用mt魔改加入到光刻机合成表当中。

短评加载中..