气相沉积室 (Deposition Chamber)

气相沉积室用于制作例如氮化硅锭,碳化硅锭,氮化钛锭,碳化钨化合物,这些材料目前没有用途。

气相沉积室工作时会先消耗能量给设备内部加压,安装外壳升级可以使加压速度提高到原本的十倍。

如果安装绝缘升级会大幅降低设备在待机时压强的降低速度。


搭建气相沉积室需要的设备:气相沉积室(方块),压力容器(储气罐) x 3,分离器 x 2,气体增压器 x 2,电站(需要燃气轮机升级),服务器(可选)。

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