一台用于进行 CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）反应的多方块机器。

目前可以用来制作 GCYS 所添加的高级电路基板及相关材料，也可用于生产立方氮化硼和六方氮化硼。

部分配方有真空/压强需求，因此需要对应的压强/真空仓。

注意：本机器不能用于生产碳纳米管，生产碳纳米管所需的 Plasma CVD 尚未完成。

搭建方法：

第一层：

使用绝缘机械方块摆放成 5×5 底座。绝缘机械方块处可用任意总线/仓代替，第二、三层同理。

第二层：

用 Substrate Casing、绝缘机械方块和强化玻璃按图示方法摆放，主方块放在角落处（注意朝向）。

第三层：

两侧放置绝缘机械方块，中间用强化玻璃填充。